金靶材鍍膜磁控濺射的簡單介紹

金靶材鍍膜磁控濺射的詳細信息

金靶材鍍膜磁控濺射，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

金靶材鍍膜磁控濺射技術參數；

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