微波消解儀使用及維護規程
作者：聚同電子 來源：聚同電子 2024-07-31 瀏覽量：62
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微波消解儀使用及維護規程
一、目的和范圍
本規定是關于微波消解儀的使用規程。
本規定適用于MARS微波消解儀的使用和維護。
二、操作流程
1. 稱樣：待消解樣品控制在每罐0.3g（液態）或0.5g（固態）以下，每罐稱樣量盡量保持一致，每批反應至少8個罐。
2.加酸：每罐加酸總量不能超過10ml，同一批反應必須使用相同的酸，嚴謹使用高lv酸。
3. 安裝消解罐：適度擰緊蓋子，將消解罐均勻放置在架子上，保證保護套為干燥狀態。將架子放入消解儀腔內。
4. 將排氣管放入通風廚或置于室外。
5. 打開儀器電源，儀器自檢完成后進入主界面。
6. 選擇load method（載入方法）或 edit/creative method（編輯/創建方法），選擇USER目錄，選擇新方法（或已有方法），選擇控制模式（RAMP TO TEMPERATURE），選擇消解罐類型（X PRESS），選擇樣品種類(Organic)，設定反應方法，保存方法。
7. 按開始鍵，儀器運行。如儀器出現異常，可按停止鍵。
8. 消解結束后儀器自動進行冷卻過程。
9. 當溫度降至60度以下，將消解罐拿至通風廚內，緩慢擰松蓋子，泄壓，然后完全打開蓋子。
10. 進行趕酸、定容等后續操作。
11. 反應結束15分鐘后關閉電源。
三、注意事項及維護
1. 使用前請確認消解罐各部分（除內壁），轉盤和儀器內腔為干燥潔凈的狀態。
2. 開關機間隔應大于一分鐘，不能空載運行儀器。
3. 消解罐清洗時，一般直接流水沖洗，再用去離子水清洗。也可用軟海綿刷消解罐內壁，禁止使用試管刷以及硬的毛刷清洗。若內壁過臟或有固體殘留，可用15%-20%xiao酸浸泡過夜或超聲波清洗。
4. HNO3、HCl、HF在200度以下無限制使用。H2O2可以適當添加，以促進消化效果，但必須預消解。H2SO4、H3PO4在200度以上限制使用，H3ClO4禁止使用。每個消解罐酸液必須一致。
5. 加樣時盡量加到底部，不要將樣品粘在管壁上，如果有粘附，則用酸沖洗至底部。
6. 安裝反應罐時先將內圈放滿，盡量均勻放置，一批反應不能少于8個。
本規定是關于微波消解儀的使用規程。
本規定適用于MARS微波消解儀的使用和維護。
二、操作流程
1. 稱樣：待消解樣品控制在每罐0.3g（液態）或0.5g（固態）以下，每罐稱樣量盡量保持一致，每批反應至少8個罐。
2.加酸：每罐加酸總量不能超過10ml，同一批反應必須使用相同的酸，嚴謹使用高lv酸。
3. 安裝消解罐：適度擰緊蓋子，將消解罐均勻放置在架子上，保證保護套為干燥狀態。將架子放入消解儀腔內。
4. 將排氣管放入通風廚或置于室外。
5. 打開儀器電源，儀器自檢完成后進入主界面。
6. 選擇load method（載入方法）或 edit/creative method（編輯/創建方法），選擇USER目錄，選擇新方法（或已有方法），選擇控制模式（RAMP TO TEMPERATURE），選擇消解罐類型（X PRESS），選擇樣品種類(Organic)，設定反應方法，保存方法。
7. 按開始鍵，儀器運行。如儀器出現異常，可按停止鍵。
8. 消解結束后儀器自動進行冷卻過程。
9. 當溫度降至60度以下，將消解罐拿至通風廚內，緩慢擰松蓋子，泄壓，然后完全打開蓋子。
10. 進行趕酸、定容等后續操作。
11. 反應結束15分鐘后關閉電源。
三、注意事項及維護
1. 使用前請確認消解罐各部分（除內壁），轉盤和儀器內腔為干燥潔凈的狀態。
2. 開關機間隔應大于一分鐘，不能空載運行儀器。
3. 消解罐清洗時，一般直接流水沖洗，再用去離子水清洗。也可用軟海綿刷消解罐內壁，禁止使用試管刷以及硬的毛刷清洗。若內壁過臟或有固體殘留，可用15%-20%xiao酸浸泡過夜或超聲波清洗。
4. HNO3、HCl、HF在200度以下無限制使用。H2O2可以適當添加，以促進消化效果，但必須預消解。H2SO4、H3PO4在200度以上限制使用，H3ClO4禁止使用。每個消解罐酸液必須一致。
5. 加樣時盡量加到底部，不要將樣品粘在管壁上，如果有粘附，則用酸沖洗至底部。
6. 安裝反應罐時先將內圈放滿，盡量均勻放置，一批反應不能少于8個。