光解水制氫性能大幅提高

作者： 2015年10月22日來源：互聯網瀏覽量：

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近日，中國科學技術大學教授熊宇杰課題組設計了一類具有原子精度殼層結構的光解水制氫助催化劑，可在降低貴金屬鉑用量的同時大幅度提高光解水制氫性能。　　研究人員基于界面電荷極化作用機制設計出了一類具有原子

　　近日，中國科學技術大學教授熊宇杰課題組設計了一類具有原子精度殼層結構的光解水制氫助催化劑，可在降低貴金屬鉑用量的同時大幅度提高光解水制氫性能。

　　研究人員基于界面電荷極化作用機制設計出了一類具有原子精度殼層的鈀—鉑核殼結構助催化劑。該設計利用鈀—鉑金屬間的電勢差作為半導體中光生電子的“運動”驅動力，使得電子自發地依次從半導體向金屬鈀、鉑“跑位”，最后聚集在金屬鉑殼層的外表面，從而驅動了金屬鉑表面的高效光解水制氫反應。

　　研究人員發展了殼層厚度精準控制的合成方法，無需使用成本高昂的原子層沉積技術即可在液相體系中生長少數原子層厚度的金屬殼層。基于該技術，其光解水制氫效率與無助催化劑的半導體光催化劑相比提高了322倍，比傳統純鉑助催化劑的半導體光催化劑體系提高了8.2倍。與此同時，該設計以相對廉價的鈀內核替代了金屬鉑，也使材料成本降低。

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標簽：光解水制氫

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