蔡司推出新型場發射掃描電子顯微鏡
作者： 2020年11月30日 來源： 瀏覽量：
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近日，蔡司展示了其新一代的場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)系列ZEISSGeminiSEM。新型蔡司GeminiSEM360、460和560專為亞納米成像和輕松分析而量身定制。用戶將受益于電子光學技術的創新和提供更好圖
近日，蔡司展示了其新一代的場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)系列ZEISS GeminiSEM。新型蔡司GeminiSEM 360、460和560專為亞納米成像和輕松分析而量身定制。用戶將受益于電子光學技術的創新和提供更好圖像質量，可用性和靈活性的新型腔室設計。
現已推出的ZEISS GeminiSEM 560首次將以ZEISS Gemini 3色譜柱推向市場。
新型蔡司GeminiSEM系列可提供任何樣品的更多信息，較大程度地減少樣品損壞并防止樣品偽影。這三種型號均采用全新的腔室設計，使研究人員能夠比以前引入更大和更多的樣品，從而使核心設施現在可以在一臺儀器中為更多的分析應用提供服務。蔡司雙子座電子光學鏡筒的獨特設計以及大而靈活的新型反應室，可滿足所有成像和分析需求。較大的腔室可實現可配置性和靈活性，以適應即將到來的研究任務并優化分析工作流程。
新型電子光學柱和智能自動駕駛儀
蔡司GeminiSEM 560設定了表面成像的新標準。引入了帶有納米雙透鏡的新型蔡司Gemini 3電子光學器件及其新型電子光學引擎Smart Autopilot，該器件經過定制，可在以高分辨率對最敏感的樣品成像時易于使用。在蔡司GeminiSEM系列產品中，560型在所有工作條件下均可提供較高分辨率，并在著陸能量低于1 kV時突破了浸沒和無單色表面成像的極限。
非導電礦物蒙脫石在斷裂表面上的納米級特征，在低著陸能量下可視化，蔡司GeminiSEM 560，Inlens SE圖像，800 V，比例尺為100 nm。
在成像和分析中提高效率和易用性
該系統可以輕松地從標準設置過渡到高級設置。新的概覽模式簡化了樣品的定向。用戶可以輕松地從低放大率導航到高放大率，而無需調整列的對齊方式。該系統可提供同類產品中最大的無失真視場。這樣就可以對大型的，具有挑戰性的樣品進行成像，例如材料研究中的磁性樣品。改進后的自動功能是目前世界上較快的，其自動對焦功能可在不到一秒鐘的時間內提供聚焦圖像。
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