該設備屬生產設備，主要功能包括：鈦/鋯磁控濺 射鍍裝飾膜，反應膜、復合膜。其它功能還包括：行星旋 轉基片臺、負偏壓輔助沉積、PLC+HMI真空自動/手動控 制、水冷循環及斷水保護系統，預留多個標準接口。真空腔室的模塊化設計和加工。通過此項技術提高了腔室設計和加工效率，提高了重大部件的加工質量和互換性，縮短了整條線的交貨周期。使用高性能旋轉陰極和中頻電源，最大蒸發電流達到400A，大大提高生產效率及膜層性能；通過輔助5段供氣，提高真空環境工藝氣體分布均勻性，提高膜層質量；安裝整體式模塊化陰極屏蔽擋板，大大減少維修時間，降低維修成本。陰極采用隔離冷卻裝置，改變以往陰極磁鋼因工作在循環水中不斷吸附雜質而影響磁場強度和壽命。新方法使磁鋼工作在真空環境，大大提高了陰極穩定性和壽命。采用自主研發的傾斜式磁鋼矩陣排列，擴大了陰極靶材表面氣隙場范圍，增大了靶材被刻蝕濺射的面積，提高靶材的利用率和均勻性。表面氣隙場水平分量均勻性在±2%以內。使用自主研發的三維空間磁場測量分析系統，系統用于測量磁鋼陣列的空間氣隙場分布及磁鋼安裝、調整，為陰極研發提供有效的技術手段。觸摸屏+PLC，可以實現電腦全自動控制，自動/手動隨時切換。同時配備先進的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發裝置，將磁控濺射技術和加熱蒸發技術的有效結合，使設備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層；獨特的雙門（室）結構，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜可同時進行，大大提高工作效率。